測量工業過程、環境中的氣溶膠粒徑和濃度，過濾器測試等。 功能強大的散射光氣溶膠光譜儀系統，可測量>=120 nm顆粒 Promo® 1000 散射光氣溶膠光譜儀系統，用於過程測量技術和采用光波導體技術的監控應用 Promo® 2000 散射光氣溶膠光譜儀系統，用於過程測量技術和監控應用，帶有兩個傳感器，同時進行準測量 Promo® 3000 功能強大的氣溶膠光譜儀，具有最高的粒徑分辨率，測量範圍120 nm到40 µm welas® digital 1000 帶有氣溶膠傳感器的氣溶膠光譜儀，最高的粒徑分辨率，采用光波導體技術，測量範圍從200 nm到100 µm welas® digital 2000 帶有兩個氣溶膠傳感器的氣溶膠光譜儀，最高粒徑分辨率，可並發進行200 nm至100 µm範圍測量 welas® digital 3000 MDI（計量吸入器）、霧化器和DPI噴霧量實時粒度和顆粒定量測定 Inas® 100 MDI（計量吸入器）和霧化器的單噴霧脈沖實時粒徑和顆粒量測定 Inas® 40
